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2020年碳化硅(SiC)產(chǎn)業(yè)鏈全景圖及企業(yè)競爭格局分析(圖)
來源:中商產(chǎn)業(yè)研究院 發(fā)布日期:2020-09-21 15:55
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中商情報網(wǎng)訊:碳化硅襯底作為第三代半導體產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)材料,具有較高的應(yīng)用前景和產(chǎn)業(yè)價值,在我國半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展中具有重要的戰(zhàn)略地位。長期以來,碳化硅襯底的核心技術(shù)和市場基本被歐美發(fā)達國家壟斷,并且產(chǎn)品尺寸越大、技術(shù)參數(shù)水平越高,其技術(shù)優(yōu)勢越明顯。

第三代半導體材料中,受技術(shù)與工藝水平限制,氮化鎵材料作為襯底實現(xiàn)規(guī)?;瘧?yīng)用仍面臨挑戰(zhàn),其應(yīng)用主要是以藍寶石、硅晶片或碳化硅晶片為襯底,通過外延生長氮化鎵以制造氮化鎵器件。相比而言,近年來碳化硅晶片作為襯底材料的應(yīng)用逐步成熟并進入產(chǎn)業(yè)化階段,以碳化硅晶片為襯底的下游產(chǎn)業(yè)鏈圖示如下:

資料來源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

碳化硅晶片制造工藝難度大,研發(fā)時間長,存在較高的技術(shù)門檻和人才門檻。自1955年菲力浦實驗室的Lely首次在實驗室成功制備碳化硅單晶以來,在隨后的60余年中,美國、歐洲、日本等發(fā)達國家與地區(qū)的科研院所與企業(yè)不斷創(chuàng)新和改良碳化硅單晶的制備技術(shù)與設(shè)備,在碳化硅單晶晶體及晶片技術(shù)與產(chǎn)業(yè)化領(lǐng)域形成了較大優(yōu)勢。目前,碳化硅晶片產(chǎn)業(yè)格局呈現(xiàn)美國全球獨大的特點。

以導電型產(chǎn)品為例,2018年美國占有全球碳化硅晶片產(chǎn)量的70%以上,僅CREE公司就占據(jù)一半以上市場份額,剩余份額大部分被日本和歐洲的其他碳化硅企業(yè)占據(jù)。其中,天科合達以1.7%的市場占有率排名全球第六、國內(nèi)第一,隨著技術(shù)水平的不斷提高及產(chǎn)能的釋放,天科合達的市場占有率預(yù)計將進一步提升。

數(shù)據(jù)來源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

我國的碳化硅晶體研究從20世紀90年代末才起步,并在發(fā)展初期受到技術(shù)瓶頸和產(chǎn)能規(guī)模限制而未能實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化,與國際先進水平相比存在較大差距。進入21世紀以來,在國家產(chǎn)業(yè)政策的支持和引導下,我國碳化硅晶片產(chǎn)業(yè)發(fā)展大幅提速。先后涌現(xiàn)出發(fā)行人、山東天岳等具有自主知識產(chǎn)權(quán)的碳化硅晶片優(yōu)秀制造企業(yè)。國內(nèi)企業(yè)以技術(shù)驅(qū)動發(fā)展,深耕碳化硅晶片與晶體制造,逐步掌握了2英寸至6英寸碳化硅晶體和晶片的制造技術(shù),打破了國內(nèi)碳化硅晶片制造的技術(shù)空白并逐漸縮小與發(fā)達國家的技術(shù)差距。

未來伴隨我國新能源汽車、5G通訊、光伏發(fā)電、軌道交通、智能電網(wǎng)、航空航天等行業(yè)的快速發(fā)展,我國碳化硅材料產(chǎn)業(yè)規(guī)模和產(chǎn)業(yè)技術(shù)將得到進一步提升。

更多資料請參考中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《中國第三代半導體材料產(chǎn)業(yè)市場前景及投資機會研究報告,同時中商產(chǎn)業(yè)研究院還提供產(chǎn)業(yè)大數(shù)據(jù)、產(chǎn)業(yè)情報、產(chǎn)業(yè)研究報告、產(chǎn)業(yè)規(guī)劃、園區(qū)規(guī)劃、十四五規(guī)劃、產(chǎn)業(yè)招商引資等服務(wù)。

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