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2020年光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈上中下游市場(chǎng)及投資機(jī)會(huì)深度剖析（附產(chǎn)業(yè)鏈全景圖）

來(lái)源：中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布日期：2020-09-25 16:01

芯片光刻機(jī)

中商情報(bào)網(wǎng)訊：光刻機(jī)是芯片制造中光刻環(huán)節(jié)的核心設(shè)備，技術(shù)含量、價(jià)值含量極高。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩模版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

雖然這些年我國(guó)在關(guān)于光刻機(jī)的很多領(lǐng)域取得進(jìn)展，但是總體來(lái)說(shuō)國(guó)內(nèi)的光刻機(jī)技術(shù)與國(guó)外技術(shù)差距依舊有15到20年。光刻機(jī)設(shè)備是所有半導(dǎo)體設(shè)備中復(fù)雜度最高、精度最高、單臺(tái)價(jià)格最高的設(shè)備，現(xiàn)代工業(yè)的集大成者。光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)、DUV光刻機(jī)。EUV是最高端的光刻機(jī)，其研發(fā)周期長(zhǎng)達(dá)十余年，是光刻機(jī)皇冠上的明珠。從產(chǎn)業(yè)鏈來(lái)看，光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈主要包括上游設(shè)備及材料、中游光刻機(jī)生產(chǎn)及下游光刻機(jī)應(yīng)用三大環(huán)節(jié)。光刻工藝一般包括氣相成底膜、旋轉(zhuǎn)涂膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)和曝光、曝光后烘焙、顯影、堅(jiān)膜烘焙、顯影檢查等8個(gè)步驟。

資料來(lái)源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

一、光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈上游市場(chǎng)分析

光刻機(jī)涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動(dòng)、精密物料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)，是所有半導(dǎo)體制造設(shè)備中技術(shù)含量最高的設(shè)備。一臺(tái)光刻機(jī)省生產(chǎn)涉及到上游上千家供應(yīng)商，比如德國(guó)的光學(xué)設(shè)備與超精密儀器，美國(guó)的計(jì)量設(shè)備與光源等。光刻機(jī)的主要部件包含測(cè)量臺(tái)與曝光臺(tái)、激光器、光束矯正器、能量控制器等。