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中商情報網(wǎng)訊：隨著光源、曝光方式不斷改進，光刻機經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。第五代光刻機主要采用的是EUV光源，波長為13.5nm，制程節(jié)點僅為7-3nm。目前行業(yè)內(nèi)使用最多的是第四代浸入式光刻機，最高制程可達7nm，在7nm之后芯片廠商必須使用最頂級的EUV光刻機。

資料來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

數(shù)據(jù)顯示，2016-2018年，全球IC制造前道光刻機全球銷量整體處于上升趨勢，2018年全球出貨量達到374臺。2019年出貨量略有下降，全年為359臺。

數(shù)據(jù)來源：芯思想研究院、平安證券、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

從競爭格局來看，目前，全球光刻機市場的主要企業(yè)即ASML，尼康(Nikon)和佳能(Canon)三家，從光刻機銷售額來看，2019年三家企業(yè)的合計市場份額就占到了全球光刻機市場的90%以上。

值得一提的是，荷蘭ASML公司的主要產(chǎn)品為各級別的光刻機，2019年阿斯麥銷售了229臺光刻機，其中占比最大的是ArFi光刻機，且市場占比高達88%；其次是KrF光刻機，市場占比高達71%。值得注意的是，ASML公司的EUV光刻機的市場占比達到了100%，完全壟斷了整個市場。

尼康：光刻機領(lǐng)域曾經(jīng)的世界第一，后被ASML所超越。目前公司主要為中高端機型，包括ArF、KrF、KrF、i-line光源。在ASML之后才推出浸入式光刻機，但是已經(jīng)落后于ASML。而佳能專注于低端產(chǎn)品，只有i-line和Kr-F光刻機，沒有浸入式光刻機，現(xiàn)在佳能已逐漸減少在半導體光刻機領(lǐng)域的投資，轉(zhuǎn)向面板光刻機領(lǐng)域。

數(shù)據(jù)來源：SEMI、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

從產(chǎn)品結(jié)構(gòu)來看，2019年，全球EUV、ArFi、ArF、KrF、i-line光刻機的出貨量分別為26、93、35、103、102臺。2019年ASML、尼康、佳能的光刻機出貨量分別為229、46、84臺，

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

在國產(chǎn)光刻機領(lǐng)域中，上海微電子(SMEE)一枝獨秀。其產(chǎn)品主要采用ArF、KrF和i-line光源，目前只能達到90nm制程，且主要用于IC的后道封裝和面板領(lǐng)域。SMEE作為國內(nèi)最領(lǐng)先的光刻機研發(fā)企業(yè)，有非常多的光刻工藝人才，在產(chǎn)業(yè)鏈還未成熟的國內(nèi)光刻機行業(yè)中，人才優(yōu)勢是主要核心競爭力。作為芯片行業(yè)的上游，目前國內(nèi)還未出現(xiàn)能制造出能滿足芯片行業(yè)需求的企業(yè)，而有著眾多光刻工藝人才的SMEE，自然而然就成為最有競爭優(yōu)勢的企業(yè)。

2020年6月初，上海微電子宣布將在2021-2022年交付第一臺28nm工藝的國產(chǎn)浸入式光刻機，國產(chǎn)光刻機有望從此前的90nm工藝一舉突破到28nm工藝。

更多資料請參考中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《中國光刻機產(chǎn)業(yè)市場前景及投資機會研究報告》，同時中商產(chǎn)業(yè)研究院還提供產(chǎn)業(yè)大數(shù)據(jù)、產(chǎn)業(yè)情報、產(chǎn)業(yè)研究報告、產(chǎn)業(yè)規(guī)劃、園區(qū)規(guī)劃、十四五規(guī)劃、產(chǎn)業(yè)招商引資等服務。