中商情報(bào)網(wǎng)訊：靶材主要由靶坯、背板或背管等部分構(gòu)成，其中，靶坯是高速離子束流轟擊的目標(biāo)材料，屬于濺射靶材的核心部分，在濺射鍍膜過程中，靶坯被離子撞擊后，其表面原子被濺射飛散出來并沉積于基板上制成薄膜材料。
一、靶材產(chǎn)業(yè)鏈
靶材產(chǎn)業(yè)鏈基本呈金字塔分布。產(chǎn)業(yè)鏈主要分金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜、終端應(yīng)用四個(gè)環(huán)節(jié)。其中濺射鍍膜是整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈中技術(shù)要求最高的環(huán)節(jié)。濺射薄膜的品質(zhì)對(duì)下游產(chǎn)品的質(zhì)量具有重要影響。終端應(yīng)用環(huán)節(jié)是整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈中規(guī)模最大的領(lǐng)域，包括半導(dǎo)體芯片、平板顯示器、太陽能電池等領(lǐng)域。
資料來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
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