中商情報(bào)網(wǎng)訊：近年來(lái)，隨著大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的快速發(fā)展，光刻膠作為微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一，也迎來(lái)了高速發(fā)展。隨著中國(guó)企業(yè)在半導(dǎo)體光刻膠關(guān)鍵技術(shù)領(lǐng)域取得突破，以及中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)能快速擴(kuò)展和供應(yīng)鏈自主可控需求帶來(lái)的發(fā)展機(jī)遇，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體光刻膠發(fā)展。
一、光刻膠定義
光刻膠又稱(chēng)光致抗蝕劑，是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。經(jīng)過(guò)幾十年不斷的發(fā)展和進(jìn)步，光刻膠的應(yīng)用領(lǐng)域不斷擴(kuò)大，衍生出非常多的種類(lèi)，根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域，光刻膠可分為半導(dǎo)體光刻膠、平板顯示光刻膠和PCB光刻膠，其技術(shù)壁壘依次降低，具體如下圖所示：
資料來(lái)源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
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