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收藏!2021年度中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈全景圖剖析(附產(chǎn)業(yè)鏈全景圖)
來(lái)源:中商產(chǎn)業(yè)研究院 發(fā)布日期:2021-12-22 16:58
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3.刻蝕機(jī)

刻蝕機(jī)是芯片制造過(guò)程中的核心設(shè)備之一,刻蝕是利用化學(xué)或者物理的方法將晶圓表面附著的不必要的材質(zhì)進(jìn)行去除的過(guò)程。在刻蝕機(jī)中,閃電、極光也都是等離子體會(huì)轟擊在晶圓表面,將原子直接打出,或發(fā)生化學(xué)反應(yīng),與晶圓上的材料形成新的化合物揮發(fā),實(shí)現(xiàn)刻蝕。

資料來(lái)源:中商產(chǎn)業(yè)研究院

(1)刻蝕工藝

刻蝕工藝指的是用化學(xué)和物理方法,在經(jīng)顯影后的電路圖永久和精確地留在晶圓上,選擇性地去除硅片上不需要的材料??涛g工藝的方法有兩大類,濕法蝕刻和干法蝕刻。具體如下圖所示:

資料來(lái)源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

由于光刻機(jī)在20nm以下光刻步驟受到光波長(zhǎng)度的限制,因此無(wú)法直接進(jìn)行光刻與刻蝕步驟,而是通過(guò)多次光刻、刻蝕生產(chǎn)出符合人們要求的更微小的結(jié)構(gòu)。目前普遍采用多重模板工藝原理,即通過(guò)多次沉積、刻蝕等工藝,實(shí)現(xiàn)10nm線寬的制程。根據(jù)相關(guān)數(shù)據(jù),14nm制程所需使用的刻蝕步驟達(dá)到64次,較28nm提升60%;7nm制程所需刻蝕步驟更是高達(dá)140次,較14nm提升118%,工藝升級(jí)持續(xù)推動(dòng)刻蝕機(jī)用量提升。

數(shù)據(jù)來(lái)源:SEMI、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

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