中商情報網(wǎng)訊:靶材是濺射薄膜制備的源頭材料,又稱濺射靶材,特別是高性能濺射靶材應用于電子元器件制造的物理氣相沉積工藝,是制備半導體晶圓、顯示面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。
高性能濺射靶材市場規(guī)模增長穩(wěn)定
我國高性能濺射靶材行業(yè)在國家戰(zhàn)略政策支持以及下游眾多應用領域需求的支撐下,行業(yè)技術不斷突破,產(chǎn)品性能不斷提升,帶動高性能濺射靶材市場規(guī)模不斷擴大。數(shù)據(jù)顯示,中國高性能濺射靶材市場規(guī)模由2016年的98.9億元增長至2020年的201.5億元,年均復合增長率為19.47%。中商產(chǎn)業(yè)研究院預測,2022年中國高性能濺射靶材市場規(guī)模將達288.1億元。
數(shù)據(jù)來源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
應用市場分析
濺射靶材是平面顯示、太陽能電池、半導體等領域生產(chǎn)所需的關鍵材料,具有較高附加值和良好的市場發(fā)展前景。在下游主要應用市場中,平面顯示領域占比最高,達到30%。其次是半導體集成電路,占比達20%;太陽能電池領域占比達18%。
數(shù)據(jù)來源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
更多資料請參考中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《中國高性能濺射靶材行業(yè)市場前景及投資機會研究報告》,同時中商產(chǎn)業(yè)研究院還提供產(chǎn)業(yè)大數(shù)據(jù)、產(chǎn)業(yè)情報、產(chǎn)業(yè)研究報告、產(chǎn)業(yè)規(guī)劃、園區(qū)規(guī)劃、十四五規(guī)劃、產(chǎn)業(yè)招商引資等服務。