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中商情報(bào)網(wǎng)訊：光刻機(jī)作為芯片產(chǎn)業(yè)的核心裝備，是芯片制造中最復(fù)雜、最昂貴的設(shè)備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。2023年3月8日荷蘭政府發(fā)布光刻機(jī)新出口管制，ASML需要申請(qǐng)出口許可，才能裝運(yùn)最先進(jìn)的浸沒(méi)式DUV系統(tǒng)。為了避免在芯片產(chǎn)能爬坡時(shí)被外界的設(shè)備供應(yīng)給“卡脖子”，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)正在加快突破。

一、光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀

1.光刻機(jī)銷量

全球半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)復(fù)蘇,受益于下游晶圓巨大需求、服務(wù)器云計(jì)算和5G基礎(chǔ)建設(shè)的發(fā)展,相關(guān)芯片的需求增加。2021年全球集成電路、面板、LED用光刻機(jī)出貨約650臺(tái)，較2020年增加70臺(tái)。其中集成電路制造用光刻機(jī)出貨約500臺(tái)；面板、LED用光刻機(jī)出貨約150臺(tái)。2021年全球光刻機(jī)銷量為450臺(tái)，隨著下游市場(chǎng)需求持續(xù)升高，預(yù)計(jì)2023全球市場(chǎng)仍將持續(xù)增長(zhǎng)，銷量將超550臺(tái)。

數(shù)據(jù)來(lái)源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

2.光刻機(jī)成本占比

光刻機(jī)可用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機(jī)用于芯片的制造，曝光工藝極其復(fù)雜，后道光刻機(jī)主要用于封裝測(cè)試，實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝，技術(shù)難度相對(duì)較小。2021年全球前道光刻設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模為172億美元，其市場(chǎng)份額在晶圓生產(chǎn)設(shè)備中占比為20%，僅次于蝕刻設(shè)備。光刻機(jī)價(jià)格昂貴，ASML當(dāng)前EUV光刻機(jī)單價(jià)為1.5億-2億美元。

數(shù)據(jù)來(lái)源：SEMI、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

3.光刻機(jī)行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局

全球光刻機(jī)市場(chǎng)的主要競(jìng)爭(zhēng)者為ASML、Nikon和Canon。2022年三大企業(yè)光刻機(jī)營(yíng)收合計(jì)接近200億美元，合計(jì)市場(chǎng)份額超過(guò)90%。其中，ASML光刻機(jī)營(yíng)收約161億美元，較2021年增長(zhǎng)了23%，Canon光刻機(jī)營(yíng)收約為20億美元，Nikon光刻機(jī)業(yè)務(wù)營(yíng)收約15億美元。ASML在全球光刻機(jī)TOP3市場(chǎng)份額占比82.1%，占絕對(duì)龍頭地位。

從產(chǎn)品出貨類型來(lái)看，ASML在超高端光刻機(jī)領(lǐng)域一家獨(dú)大，如EUV、ArFi等類型光刻機(jī)，產(chǎn)品眾多；Canon與Nikon產(chǎn)品部分光刻機(jī)用于面板業(yè)，部分用于半導(dǎo)體，Canon目前產(chǎn)品集中于特定工藝領(lǐng)域的i-Line和KrF設(shè)備，Nikon擁有除了EUV以外的所有類型光刻機(jī)產(chǎn)品，出貨量少于前兩家。

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