4.光刻機(jī)
(1)銷(xiāo)量
全球半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)復(fù)蘇,受益于下游晶圓巨大需求、服務(wù)器云計(jì)算和5G基礎(chǔ)建設(shè)的發(fā)展,相關(guān)芯片的需求增加。2021年全球光刻機(jī)銷(xiāo)量為450臺(tái),2022年約為510臺(tái),隨著下游市場(chǎng)需求持續(xù)升高,預(yù)計(jì)2023全球市場(chǎng)仍將持續(xù)增長(zhǎng),銷(xiāo)量將超550臺(tái)。
數(shù)據(jù)來(lái)源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
(2)競(jìng)爭(zhēng)格局
全球光刻機(jī)市場(chǎng)的主要競(jìng)爭(zhēng)者為ASML、Nikon和Canon。2022年三大企業(yè)光刻機(jī)營(yíng)收合計(jì)接近200億美元,合計(jì)市場(chǎng)份額超過(guò)90%。其中,ASML光刻機(jī)營(yíng)收約161億美元,較2021年增長(zhǎng)了23%,Canon光刻機(jī)營(yíng)收約為20億美元,Nikon光刻機(jī)業(yè)務(wù)營(yíng)收約15億美元。ASML在全球光刻機(jī)TOP3市場(chǎng)份額占比82.1%,占據(jù)絕對(duì)龍頭地位。
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5.刻蝕機(jī)
近年來(lái),由于云計(jì)算和人工智能的快速發(fā)展,芯片需求不斷增長(zhǎng),進(jìn)而使得刻蝕設(shè)備需求維持高增長(zhǎng),2021年市場(chǎng)規(guī)模達(dá)375.28億元,同比增長(zhǎng)50%。2022年市場(chǎng)規(guī)模約為410億元,隨著國(guó)內(nèi)行業(yè)政策的加持,以及疫后復(fù)蘇對(duì)于半導(dǎo)體芯片的龐大需求,預(yù)計(jì)2023年市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)480億元。
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