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2024年全球掩膜版市場規(guī)模及重點(diǎn)企業(yè)預(yù)測分析（圖）

來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布日期：2024-09-12 09:09

掩膜版

中商情報網(wǎng)訊：掩模版（Photomask）又稱光罩、光掩模、光刻掩模版、掩膜版、掩膜板等，是光刻工藝中關(guān)鍵部件之一，是下游行業(yè)產(chǎn)品制造過程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具，是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。

市場規(guī)模

掩膜版是微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移母版，是平板顯示、半導(dǎo)體、觸控、電路板等行業(yè)生產(chǎn)制造過程中重要的關(guān)鍵材料，其中，半導(dǎo)體是掩膜版最主要的應(yīng)用領(lǐng)域，占比60%。中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2024-2029年中國掩膜版市場調(diào)查與行業(yè)前景預(yù)測專題研究報告》數(shù)據(jù)顯示，2018-2022年，全球半導(dǎo)體掩膜版市場規(guī)模由40.41億美元增長至49億美元，復(fù)合年均增長率達(dá)4.9%，預(yù)計(jì)2024年半導(dǎo)體掩膜版市場規(guī)模將繼續(xù)增長至53.24億美元。

數(shù)據(jù)來源：SEMI、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

重點(diǎn)企業(yè)分析

從行業(yè)競爭格局來看，美國、日韓掩膜版廠商處于領(lǐng)先地位。重點(diǎn)企業(yè)主要包括福尼克斯、PKL、豐創(chuàng)光罩，具體如圖所示：

資料來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

更多資料請參考中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《中國掩膜版市場前景及投資機(jī)會研究報告》，同時中商產(chǎn)業(yè)研究院還提供產(chǎn)業(yè)大數(shù)據(jù)、產(chǎn)業(yè)情報、行業(yè)研究報告、行業(yè)白皮書、行業(yè)地位證明、可行性研究報告、產(chǎn)業(yè)規(guī)劃、產(chǎn)業(yè)鏈招商圖譜、產(chǎn)業(yè)招商指引、產(chǎn)業(yè)鏈招商考察&推介會、“十五五”規(guī)劃等咨詢服務(wù)。