【導(dǎo)讀】

【報(bào)告描述】：

第一章　半導(dǎo)體、光伏產(chǎn)業(yè)用高純硅烷概述
第一節(jié)　高純硅烷簡(jiǎn)介
第一節(jié)　高純硅烷的主要基本性能與質(zhì)量指標(biāo)
第一節(jié)　高純硅烷的主要應(yīng)用領(lǐng)域
第一節(jié)　高純硅烷在發(fā)展我國(guó)電子工業(yè)中的重要作用

第二章 2012年中國(guó)三氟化氮行業(yè)市場(chǎng)發(fā)展環(huán)境分析（PEST分析法）
第一節(jié)　2012年中國(guó)經(jīng)濟(jì)環(huán)境分析
一、國(guó)民經(jīng)濟(jì)運(yùn)行情況GDP
二、消費(fèi)價(jià)格指數(shù)CPI、PPI
三、全國(guó)居民收入情況
四、恩格爾系數(shù)
五、工業(yè)發(fā)展形勢(shì)
六、固定資產(chǎn)投資情況
七、財(cái)政收支狀況
八、中國(guó)匯率調(diào)整
第二節(jié) 2012年中國(guó)三氟化氮行業(yè)政策環(huán)境分析
第三節(jié) 2012年中國(guó)三氟化氮行業(yè)社會(huì)環(huán)境分析
一、人口環(huán)境分析
二、教育環(huán)境分析
三、文化環(huán)境分析
四、生態(tài)環(huán)境分析
五、中國(guó)城鎮(zhèn)化率
六、居民的各種消費(fèi)觀念和習(xí)慣
第四節(jié) 2012年中國(guó)三氟化氮行業(yè)技術(shù)環(huán)境分析

第三章 電子特種氣體及其應(yīng)用市場(chǎng)
第一節(jié)　電子特種氣體概述
第一節(jié)　電子特種氣體制造中的主要技術(shù)方面
第一節(jié)　電子特種氣體的純凈度要求
第一節(jié)　電子特種氣體產(chǎn)品市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的焦點(diǎn)問(wèn)題
一、對(duì)電子特種氣體雜質(zhì)、純度要求的問(wèn)題
二、氣體配送及供應(yīng)問(wèn)題
三、儲(chǔ)存、使用中的安全性問(wèn)題
四、成本性問(wèn)題
第一節(jié)　國(guó)內(nèi)外電子特種氣體行業(yè)發(fā)展概述
一、境外電子特種氣體生產(chǎn)與市場(chǎng)情況
二、國(guó)內(nèi)電子特種氣體行業(yè)及其發(fā)展

第四章 高純硅烷氣體性能指標(biāo)及制備、凈化的工藝路線
第一節(jié)　高純硅烷的性能指標(biāo)
第二節(jié)　高純硅烷工業(yè)化制備的典型工藝路線
一、制備工藝法概述
二、硅化鎂合金法制備硅烷
（一）工藝過(guò)程
（二）主要反應(yīng)
（三）工藝特點(diǎn)
（四）工藝法存在的問(wèn)題
三、三氯氫硅還原法制備硅烷
（一）工藝過(guò)程
（二）主要反應(yīng)
（三）工藝特點(diǎn)
（四）工藝法存在的問(wèn)題
四、四氟化硅還原法制備硅烷
（一）工藝過(guò)程
（二）主要反應(yīng)
（三）工藝特點(diǎn)
（四）工藝法存在的問(wèn)題
五、氯硅烷歧化法制備硅烷
（一）工藝過(guò)程
（二）主要反應(yīng)
（三）工藝特點(diǎn)
（四）工藝法存在的問(wèn)題
六、烷氧基硅烷歧化法
（一）工藝過(guò)程
（二）主要反應(yīng)
（三）工藝特點(diǎn)
（四）工藝法存在的問(wèn)題
第三節(jié)　高純硅烷氣體的凈化工藝路線
一、氣體的凈化方法概述
二、高純硅烷的凈化過(guò)程
第四節(jié)　工業(yè)高純硅烷氣體的包裝及貯運(yùn)

第五章 國(guó)內(nèi)外高純硅烷生產(chǎn)與主要企業(yè)現(xiàn)況
第一節(jié)　世界高純硅烷產(chǎn)銷(xiāo)、市場(chǎng)規(guī)模的概況
第二節(jié)　國(guó)外高純硅烷主要生產(chǎn)企業(yè)產(chǎn)銷(xiāo)情況
第三節(jié)　國(guó)外高純硅烷主要生產(chǎn)企業(yè)簡(jiǎn)況
一、REC Silicon公司
二、Dowcorning公司
三、SODIFF新素材有限公司
四、MEMC公司
五、Air Liquid公司
六、日本電氣工業(yè)公司
七、大陽(yáng)日酸公司
八、Evonik Industries公司
第四節(jié)　國(guó)內(nèi)硅烷業(yè)的發(fā)展概述
一、我國(guó)高純硅烷業(yè)發(fā)展的概述
二、我國(guó)硅烷研發(fā)、生產(chǎn)的歷史
第五節(jié)　國(guó)內(nèi)高純硅烷生產(chǎn)企業(yè)現(xiàn)況
一、國(guó)內(nèi)高純硅烷生產(chǎn)企業(yè)總述
二、浙江中寧硅業(yè)有限公司
三、浙江賽林硅業(yè)有限公司
四、滁州市硅谷特種氣體有限公司
五、六九硅業(yè)有限公司
六、浙江金華美晶硅電子有限公司
七、黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司
八、深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司

第六章 高純硅烷主要應(yīng)用領(lǐng)域的概述
第一節(jié)　高純硅烷在集成電路中的應(yīng)用
一、集成電路芯片制程
二、化學(xué)氣相沉積和氣體應(yīng)用
三、高純硅烷在化學(xué)氣相沉積中作為氣源形成的薄膜
第二節(jié)　高純硅烷在薄膜硅太陽(yáng)電池中的應(yīng)用
一、非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池
二、Si薄膜的材料特性
三、非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池制作工藝及高純硅烷其應(yīng)用
第三節(jié)　高純硅烷在液晶顯示器中的應(yīng)用
第四節(jié)　高純硅烷在其它領(lǐng)域的應(yīng)用
一、在特種玻璃制造中的應(yīng)用
二、在電子部件制造中的應(yīng)用
三、在化合物半導(dǎo)體材料制造中的應(yīng)用
四、在化合物半導(dǎo)體材料制造中的應(yīng)用
五、在軍工、航天產(chǎn)品中作為氣體燃料得到應(yīng)用
第五節(jié)　高純硅烷在電子信息產(chǎn)品中各應(yīng)用市場(chǎng)需求量的測(cè)算

第七章 高純硅烷主要應(yīng)用市場(chǎng)之一—集成電路產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)況與趨勢(shì)
第一節(jié)　世界半導(dǎo)體硅片生產(chǎn)與市場(chǎng)發(fā)展
一、世界半導(dǎo)體生產(chǎn)的現(xiàn)況
二、世界半導(dǎo)體硅片的生產(chǎn)狀況
第二節(jié)　我國(guó)半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)與市場(chǎng)現(xiàn)況與發(fā)展
一、我國(guó)集成電路市場(chǎng)、產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀
二、我國(guó)集成電路晶圓制造業(yè)情況

第八章 高純硅烷主要應(yīng)用市場(chǎng)之二 —薄膜太陽(yáng)能電池產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)況與趨勢(shì)
第一節(jié)　國(guó)內(nèi)外光伏產(chǎn)業(yè)的發(fā)展
一、世界光伏產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展
二、我國(guó)光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展環(huán)境與現(xiàn)況
第二節(jié)　薄膜太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)與市場(chǎng)
一、薄膜太陽(yáng)能電池特點(diǎn)及品種
二、薄膜太陽(yáng)能電池未來(lái)市場(chǎng)發(fā)展前景
三、薄膜太陽(yáng)能電池生產(chǎn)及在光伏市場(chǎng)上的份額變化
第三節(jié)　國(guó)內(nèi)外薄膜太陽(yáng)能電池的主要生產(chǎn)企業(yè)

第九章 高純硅烷主要應(yīng)用市場(chǎng)之三 —液晶顯示器產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)況與趨勢(shì)
第一節(jié)　世界平板顯示器產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)況
第二節(jié)　我國(guó)平板顯示器產(chǎn)業(yè)現(xiàn)況與未來(lái)發(fā)展預(yù)測(cè)
一、我國(guó)液晶顯示產(chǎn)業(yè)發(fā)展概述
二、我國(guó)LCD面板生產(chǎn)現(xiàn)況與未來(lái)幾年發(fā)展預(yù)測(cè)
三、我國(guó)發(fā)展平板顯示產(chǎn)業(yè)的相關(guān)政策及未來(lái)發(fā)展的預(yù)測(cè)、分析

第十章 2013-2018年中國(guó)高純硅烷行業(yè)投資機(jī)會(huì)與風(fēng)險(xiǎn)預(yù)警
第一節(jié) 投資環(huán)境的分析與對(duì)策
第二節(jié) 投資機(jī)遇分析
第三節(jié) 投資風(fēng)險(xiǎn)分析
一、政策風(fēng)險(xiǎn)
二、經(jīng)營(yíng)風(fēng)險(xiǎn)
三、技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)
四、進(jìn)入退出風(fēng)險(xiǎn)
第四節(jié) 投資策略與建議
一、企業(yè)資本結(jié)構(gòu)選擇
二、企業(yè)戰(zhàn)略選擇
三、投資區(qū)域選擇
第五節(jié) 專(zhuān)家投資建議

圖表目錄（部分）：
圖表：2005-2012年中國(guó)GDP總量及增長(zhǎng)趨勢(shì)圖
圖表：2012年中國(guó)月度CPI、PPI指數(shù)走勢(shì)圖
圖表：2005-2012年我國(guó)城鎮(zhèn)居民可支配收入增長(zhǎng)趨勢(shì)圖
圖表：2005-2012年我國(guó)農(nóng)村居民人均純收入增長(zhǎng)趨勢(shì)圖
圖表：1978-2010中國(guó)城鄉(xiāng)居民恩格爾系數(shù)走勢(shì)圖
圖表：2010.12-2011.12年我國(guó)工業(yè)增加值增速統(tǒng)計(jì)
圖表：2005-2012年我國(guó)全社會(huì)固定投資額走勢(shì)圖（2012年不含農(nóng)戶(hù)）
圖表：2005-2012年我國(guó)財(cái)政收入支出走勢(shì)圖　單位：億元
圖表：近期人民幣匯率中間價(jià)（對(duì)美元）
圖表：高純硅烷結(jié)構(gòu)圖
圖表：工業(yè)化的高純硅烷產(chǎn)品實(shí)物
圖表：半導(dǎo)體制造業(yè)用特種氣體按其使用時(shí)的特性分類(lèi)情況
圖表：典型半導(dǎo)體晶元工廠的電子特種氣體供應(yīng)系統(tǒng)流程圖
圖表：全球半導(dǎo)體工業(yè)用主要幾種高純度氣體的市場(chǎng)規(guī)模變化情況
圖表：吸附法提純硅烷的流程示意
圖表：世界近年的高純硅烷產(chǎn)銷(xiāo)量
圖表：2011年世界主要高純硅烷生產(chǎn)企業(yè)市場(chǎng)份額推估
圖表：2009年～2012年世界主要高純硅烷生產(chǎn)地區(qū)的產(chǎn)銷(xiāo)量比例變化
圖表：2011年高純硅烷產(chǎn)品在世界各個(gè)主要應(yīng)用市場(chǎng)中的產(chǎn)銷(xiāo)量比例統(tǒng)計(jì)
圖表：REC硅材料公司設(shè)在華盛頓州的高純硅烷及多晶硅生產(chǎn)廠
圖表：IC硅片制造前工程的過(guò)程
圖表：各種CVD法反應(yīng)裝置的原理
圖表：化學(xué)氣相沉積通常包括的八個(gè)主要步驟
圖表：化學(xué)氣相沉積過(guò)程中的傳輸、反應(yīng)和成膜的過(guò)程示意圖
圖表：DRAM中使用的各種薄膜
圖表：邏輯LSI中使用的各種薄膜
圖表：Si基薄膜的種類(lèi)、特征及晶體結(jié)構(gòu)
圖表：Si基薄膜太陽(yáng)能電池的基本結(jié)構(gòu)
圖表：非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池制作工藝過(guò)程
圖表：采用PECVO 形成Si薄膜的制作
圖表：TFT 陣列構(gòu)成及SiH4在其中的應(yīng)用
圖表：等離子體CVD加工工序及SiH4等電子特氣在其的供應(yīng)系統(tǒng)
圖表：所示了采用等離子體CVD法制作TFT陣列的實(shí)際裝備例
圖表：世界高純硅烷產(chǎn)品在四大應(yīng)用市場(chǎng)領(lǐng)域所占的市場(chǎng)需求量的份額變化
圖表：2004-2014全球半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模和年增幅
圖表：世界不同直徑尺寸硅片市場(chǎng)發(fā)展趨勢(shì)
圖表：2001-2010年全球硅片出貨量變化率
圖表：2001-2010全球硅片銷(xiāo)售收入變化率
圖表：全球硅片出貨量按尺寸計(jì)預(yù)測(cè)
圖表：2006～2010年我國(guó)半導(dǎo)體及集成電路產(chǎn)銷(xiāo)情況
圖表：2005-2010年我國(guó)集成電路晶圓業(yè)發(fā)展規(guī)模
圖表：2010年全球光伏市場(chǎng)構(gòu)成
圖表：2004-2010年中國(guó)太陽(yáng)能電池產(chǎn)量
圖表：2006~2010年世界及我國(guó)光伏年裝機(jī)量
圖表：2007-2013年世界薄膜太陽(yáng)能電池產(chǎn)能統(tǒng)計(jì)及預(yù)測(cè)
圖表：2009-2013年世界薄膜太陽(yáng)能電池產(chǎn)量統(tǒng)計(jì)及預(yù)測(cè)
圖表：2008年-2013年世界液晶顯示器面板出貨量統(tǒng)計(jì)及預(yù)測(cè)
圖表：2004-2010年平板電視在世界主要國(guó)家、地區(qū)的普及情況
圖表：2005～2013年我國(guó)LCD面板的市場(chǎng)規(guī)模統(tǒng)計(jì)、預(yù)測(cè)
圖表：我國(guó)TFT-LCD面板的產(chǎn)能統(tǒng)計(jì)及未來(lái)幾年發(fā)展預(yù)測(cè)
圖表：2005年2014年我國(guó)TFT-LCD面板各代線在國(guó)內(nèi)總產(chǎn)能的比例變化
圖表：高純氣體的種類(lèi)
圖表：電子特種氣體的主要品種及分類(lèi)
圖表：國(guó)外主要大型電子特氣企業(yè)在主導(dǎo)生產(chǎn)工藝路線及所達(dá)到純度的情況
圖表：國(guó)外半導(dǎo)體、光伏用高純硅烷的主要性能指標(biāo)
圖表：幾種高純硅烷工業(yè)化制備的典型工藝法的特點(diǎn)
圖表：硅烷及雜質(zhì)氫化物的沸點(diǎn)和相對(duì)分子質(zhì)量
圖表：2009～2012年全世界高純硅烷主要生產(chǎn)廠家在世界市場(chǎng)所占份額
圖表：集成電路生產(chǎn)中采用CVD形成各種薄膜所使用氣體源的情況
圖表：2010年世界主要大型半導(dǎo)體廠家的銷(xiāo)售收入統(tǒng)計(jì)
圖表：2002～2010年世界硅片出貨量及銷(xiāo)售收入情況
圖表：SEMI對(duì)世界硅片的出貨量的統(tǒng)計(jì)及預(yù)測(cè)
圖表：硅片尺寸﹑質(zhì)量要求與所對(duì)應(yīng)的集成電路工藝技術(shù)的發(fā)展
圖表：2010年國(guó)內(nèi)十大集成電路和分立器件制造企業(yè)列表
圖表：2006～2010年我國(guó)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體級(jí)晶圓產(chǎn)量變化統(tǒng)計(jì)
圖表：我國(guó)集成電路晶圓制造業(yè)在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中占有的比重情況
圖表：2000年-2010年我國(guó)晶圓生產(chǎn)線建線增長(zhǎng)情況
圖表：我國(guó)集成電路晶圓制造6英寸以上生產(chǎn)線產(chǎn)能和工藝技術(shù)水平情況
圖表：2007-2010年我國(guó)太陽(yáng)能電池出口情況
圖表：2007-2010年我國(guó)太陽(yáng)能電池進(jìn)口情況
圖表：近幾年全球薄膜太陽(yáng)能電池產(chǎn)量及市場(chǎng)份額
圖表：國(guó)外主要薄膜太陽(yáng)能電池生產(chǎn)廠家
圖表：境外薄膜太陽(yáng)能電池生產(chǎn)廠家情況
圖表：我國(guó)國(guó)內(nèi)薄膜太陽(yáng)能電池生產(chǎn)廠家的情況
圖表：LCD中下游市場(chǎng)的劃分
圖表：全球平板顯示器在不同應(yīng)用的需求市場(chǎng)的規(guī)模
圖表：2013年全世界G5以上TFT-LCD產(chǎn)能比較
圖表：我國(guó)TFT-LCD液晶面板線分布（至2010年底）
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